Paese
Singapore
Data
01 apr 2025
5.0/10
| Dettaglio | Valore |
|---|---|
| Titolo originale | 痕迹 |
| Lingua originale | EN |
| Lingue parlate | 普通话 |
| Paesi di produzione | Singapore |
| Stato | Released |
| Compagnie di produzione | Nanyang Technological University |
| Data di uscita | 1 aprile 2025 |
| Producer | Ng Kai Ming, Hing Su Yi, Lee Si Min |
| Writer | Lee Si Min |
| Editors | Darryl Koh, Lee Si Min, Eugene Seah |
| Cinematography | Erving Tan Qing Jun |
| Asst. Directors | Wendy Lie, Lee Si Min |
| Lighting | Li Jialing |
| Camera Operators | Erving Tan Qing Jun |
| Add. Photography | Erving Tan Qing Jun |
| Production Design | Beatrice Hew |
| Art Direction | Beatrice Hew |
| Set Decoration | Beatrice Hew |
| Composer | John Ryan Yeo, Antonia Winn |
| Sound | Antonia Winn, John Ryan Yeo |
| Costume Design | Nicky Josephine Tjandra |
| Makeup | Nicky Josephine Tjandra |
| Hairstyling | Nicky Josephine Tjandra |
Paese
Singapore
Data
01 apr 2025
Contenuti editoriali da completare
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